這是半導體、電子制造領域的設備，由日本 KASHIYAMA（柏山工業）研發，專注真空環境控制，是行業標準配置之一。
無油干式設計：避免潤滑油污染介質，適配超潔凈工藝（如半導體晶圓加工）；
抽氣性能強勁：最大抽速 50,000 L/min，極限壓力低至 0.5Pa，可快速建立穩定真空環境；
節能低耗：運行功率僅 2.1kW，冷卻水需求僅 3.0L/min，降低長期運行成本；
靈活兼容：支持 0-80 SLM 氮氣吹掃調節，可與同系列 SDX/SDT/SDH 型號設備協同擴展；
小型化設計：外形尺寸 1050×515×950mm（長 × 寬 × 高），節省安裝空間。
半導體制造、液晶顯示（LCD）生產、電子 / 電池工藝、化工腐蝕氣體處理、高純度實驗室真空系統等，核心用于蝕刻、晶圓加工等關鍵工序。
更新時間：2025-10-29
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