更新時間:2026-01-06
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| 參數項 | 數值 | 備注 |
|---|---|---|
| 抽氣速度 | 3300 L/min(120 CFM) | 標準工況下的穩定抽速 |
| 極限壓力 | 3.0 Pa(無氣鎮);5.0 Pa(帶氣鎮) | 滿足潔凈真空基礎需求 |
| 進氣 / 排氣口徑 | NW40(KF40) | 適配主流真空管道 |
| 額定功率 | 1.5 kW | 極限壓力下功耗低至 1.1 kW |
| 電源容量 | 3 kVA | 適配三相 200?240 VAC,可選單相 |
| 運行噪音 | 56 dB(A) | 低噪,適合實驗室 / 潔凈車間 |
| 冷卻方式 | 空冷 | 無需外接冷卻水,安裝靈活 |
| 重量 | 約 55 kg | 緊湊易搬運,節省安裝空間 |
| 接口配置 | 帶氣鎮接口、垂直排氣、外置消音器 + 止回閥 | 標準配置,可選配件豐富 |
無油潔凈:多級羅茨結構無油污染,適配半導體晶圓、光伏電池片等對潔凈度要求高的制程。
空冷免維護:無需水冷系統,減少管路與維護成本,適合無水或空間受限場景。
低噪節能:56 dB (A) 運行噪音,極限壓力下功耗低至 1.1 kW,長期運行成本優勢顯著。
接口兼容:NW40 接口適配多數真空設備,氣鎮功能可處理少量水汽,提升工況適配性。
穩定可靠:非接觸式轉子設計,磨損小、壽命長,適合連續運行的產線或實驗環境。
半導體:晶圓清洗、光刻膠涂覆、PECVD 等前道制程的真空環境維持。
光伏:電池片沉積、等離子體刻蝕等潔凈真空環節。
分析儀器:質譜儀、電子顯微鏡、真空干燥箱的真空源供給。
材料研發:真空鍍膜、濺射、離子注入等實驗設備的配套真空系統。
工業制造:電子元器件封裝、精密焊接等低污染真空場景。
配套建議
真空管道:采用 NW40(KF40)法蘭,配金屬密封圈確保密封性能。
電源配置:三相 200?240 VAC,預留 3 kVA 供電容量,避免電壓波動影響運行。
維護周期:建議每 6 個月檢查濾芯、消音器,每年進行一次全面保養與性能校準。
選型對比
| 型號 | 抽速(L/min)| 極限壓力(Pa)| 功率(kW)| 適用場景 |
| ---- | ---- | ---- | ---- | ---- |
|EV?SA20|1670|3.0/5.0|1.5 | 小型分析儀器、實驗室小腔體 |
|EV?SA30|3300|3.0/5.0|1.5 | 中型產線、光伏 / 半導體中小腔體 |
|EV?SA50|5000|3.0/5.0|1.5 | 大型腔體、高抽速需求的制程線 |
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