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當前位置:首頁技術文章現貨TAIMEI CHEMICALS大明化學TM-UF氧化鋁超微粉

現貨TAIMEI CHEMICALS大明化學TM-UF氧化鋁超微粉

更新時間:2026-01-30點擊次數:115
TM-UF 是大明化學 TAIMICRON 系列中的高純度 α- 氧化鋁超微粉,主打超精細粒徑、高分散性,適配電子陶瓷、半導體治具、精密研磨等對純度與粒徑分布要求嚴苛的場景。以下為核心信息:

核心參數(公開版)

參數TM-UF
純度99.99%(4N 級),低雜質 / 低放射性
晶體形態α- 氧化鋁(剛玉相),晶體結構致密
一次粒徑0.09 μm(超細級別,優于同系列 TM-DA/TM-DAR)
中位徑 d500.14 μm(窄分布,粒徑均勻性好)
BET 比表面積17.0 m2/g(高比表面積,利于燒結與分散)
雜質控制鈉 / 鐵等關鍵雜質<1ppm,適配半導體 / 電子污染需求
燒結特性低溫燒結適配性好,易獲得致密結構
包裝常規為 1kg / 包,支持定制化包裝

核心優勢

  1. 超微超細粒徑:一次粒徑 0.09 μm,d50 0.14 μm,窄分布,適合納米級材料混合與成型,提升產品致密度與性能均勻性。

  2. 4N 級高純與低污染:嚴格控制雜質與放射性,適配半導體治具、電子陶瓷等對污染容忍的場景。

  3. 高比表面積與分散性:17.0 m2/g 比表面積,粉體分散性好,利于與其他材料復合,降低燒結溫度與收縮率波動。

  4. 晶體結構穩定:α- 氧化鋁相純度高,化學穩定性與耐磨性優異,適合高溫 / 高濕等嚴苛工況。


適用場景與選型匹配

應用場景核心價值選型參考
電子 / 半導體基板、封裝材料、半導體治具低放射性、高純、尺寸穩定
精密陶瓷電子陶瓷、結構陶瓷、耐磨部件低溫燒結、致密結構、高硬度
研磨 / 分散納米級材料研磨介質、漿料添加劑超細粒徑、高分散、低污染
催化 / 吸附特種催化劑載體高比表面積、化學穩定性

與同系列型號對比(關鍵差異)

型號一次粒徑中位徑 d50BET 比表面積核心差異
TM-UF0.09 μm0.14 μm17.0 m2/g超精細粒徑,高比表面積,適合超精密成型
TM-DA0.12 μm0.17 μm12.5 m2/g平衡粒徑與分散,適合常規精密陶瓷
TM-DAR0.12 μm0.16 μm12.5 m2/g側重低放射性,適配半導體場景
TM-5D0.20 μm0.25 μm8.2 m2/g粒徑稍大,適合對燒結效率要求高的場景

工藝與使用要點

  1. 分散與成型:超細粒徑易團聚,建議用酒精 / 丙酮 + 分散劑超聲分散,成型壓力適中避免密度不均。

  2. 燒結控制:高比表面積利于低溫燒結(建議 1400–1500°C),升溫速率 5–10°C/min,保溫 2–4 小時,提升致密度。

  3. 雜質管理:4N 級純度需匹配潔凈車間與專用工具,避免二次污染。


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